เป้าหมายสปัตเตอร์โรตารี่นิกเกิลโครเมียม

คำอธิบายเป้าหมายโรตารีสปัตเตอริงนิกเกิลโครเมียม

โดยทั่วไป เป้าหมายโรตารีสปัตเตอริงของนิกเกิลโครเมียมจะทำโดยการถลุงและหล่อ หลังจากผ่านกระบวนการอิเล็กโทรลิซิสสามชั้น เช่นเดียวกับชุดของกระบวนการเชิงกล เช่น การเจียร การกลึง การรีด และการตัด โดยมีความบริสุทธิ์ตั้งแต่ 99.5 เปอร์เซ็นต์ถึง 99.99 เปอร์เซ็นต์ ฟิล์มบางที่สปัตเตอริงด้วย Nickel Chromium Rotary Sputtering Targets มีการพึ่งพาอุณหภูมิต่ำ, ความต้านทานสูง, ค่าสัมประสิทธิ์ความไวสูง, การนำไฟฟ้าและความร้อนสูง, ต้านทานการเกิดออกซิเดชันที่ดีเยี่ยม, โครงสร้างจุลภาคที่สม่ำเสมอ, พื้นผิวเรียบไม่มีรูพรุน และความทนทานที่ดี เป็นต้น เมื่อเปรียบเทียบกับเป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะผสมอื่นๆ มีคุณสมบัติทางกายภาพและเคมีที่ดีกว่า ในอุตสาหกรรมการเคลือบผิวแบบ PVD หรือ CVD ชิ้นงานโรตารีสปัตเตอริงแบบนิกเกิลโครเมียมและฟิล์มของบริษัทมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในฟิล์มเสริมความแข็งแรงของพื้นผิว เช่น ความต้านทานการสึกหรอ การลดการสึกหรอ ความต้านทานความร้อน และความต้านทานการกัดกร่อน เช่นเดียวกับกระจกที่มีการแผ่รังสีต่ำ ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ การบันทึกด้วยแม่เหล็ก เซมิคอนดักเตอร์และตัวต้านทานแบบฟิล์มบางและอุตสาหกรรมเทคโนโลยีระดับสูงอื่นๆ

เป้าหมายสปัตเตอร์โรตารี่นิกเกิลโครเมียม ข้อมูลจำเพาะ:

รูปภาพเป้าหมายโรตารีสปัตเตอร์นิกเกิลโครเมียม:

ป้ายกำกับยอดนิยม: นิกเกิลโครเมียมโรตารีสปัตเตอร์เป้าหมาย ซัพพลายเออร์ ผู้ผลิต โรงงาน กำหนดเอง ขายส่ง ราคา เสนอราคา ขาย