เป้าหมายโบรอนบี

ภาพรวม

เป้าหมาย Boron B เป็นเป้าหมายโลหะที่ใช้กันทั่วไปในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ . ความบริสุทธิ์ของมันสามารถเข้าถึงได้มากกว่า 99 . 99% (4n) และเนื้อหาของสิ่งของ (เช่น O, C, Fe, ฯลฯ . ปรับให้เข้ากับกระบวนการเตรียมระดับไฮเอนด์เช่นการสปัตเตอร์ Magnetron, การระเหยของลำแสงอิเล็กตรอน, การสะสมชั้นอะตอม (ALD), ฯลฯ . เพื่อตอบสนองความต้องการที่แม่นยำของสถานการณ์ที่แตกต่างกัน ในฐานะซัพพลายเออร์โลหะที่ไม่เป็นเหล็กที่มีประสบการณ์ระดับมืออาชีพมากกว่า 20 ปี FanMetal ยังสามารถให้ลูกค้าได้รับเป้าหมายการพ่นโลหะที่มีความบริสุทธิ์สูงและประหยัดต้นทุนอื่น ๆ เช่นเป้าหมายสปัตเตอร์นิกเกิล, เป้าหมาย ZR702 เซอร์โคเนียม, เป้าหมายโครเมียม, ฯลฯ .

ลักษณะเฉพาะ

ข้อมูลจำเพาะ

แอปพลิเคชัน

1. ฟิลด์เซมิคอนดักเตอร์

ในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์เช่นทรานซิสเตอร์และไดโอดเป้าหมายโบรอนบีใช้เพื่อให้สารเจือปนซึ่งสามารถควบคุมคุณสมบัติทางไฟฟ้าของวัสดุเซมิคอนดักเตอร์เช่นผลึกซิลิกอนได้อย่างแม่นยำ

การเตรียมฟิล์มบาง ๆ ของโบรอน-ซิลิกอนออกไซด์เป็นชั้นฉนวนหรือชั้น passivation ของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์โดยใช้คุณสมบัติการแพร่กระจายของ Boron เพื่อปรับปรุงความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์ .}

2. สนามแม่เหล็ก

การเตรียมฟิล์มแม่เหล็กประสิทธิภาพสูง: เป้าหมายโบรอนสามารถใช้ในการเตรียมฟิล์มบันทึกแม่เหล็กที่มีความหนาแน่นของการจัดเก็บสูงเสียงต่ำและความเสถียรทางความร้อนที่ดี . ในสื่อการบันทึกแม่เหล็กการเพิ่มความน่าเชื่อถือของแม่เหล็ก

3. สนามบินและอวกาศ

การเคลือบ Boride ที่จัดทำโดยเป้าหมายโบรอนที่มีความบริสุทธิ์สูงมีจุดหลอมเหลวสูงมากและความต้านทานการกระแทกด้วยความร้อนและสามารถใช้สำหรับหัวฉีดจรวดและการเคลือบผิวใบมีดกังหันซึ่งช่วยลดน้ำหนักของส่วนประกอบในขณะที่ต้านทานอุณหภูมิสูงมากและการกัดกร่อนของก๊าซ

4. การเคลือบที่ทนต่อการสึกหรอได้อย่างหนัก
เป้าหมาย Boron B สามารถสร้างการเคลือบอย่างหนักบนพื้นผิวของเครื่องมือแม่พิมพ์ชิ้นส่วนเครื่องจักรกล ฯลฯ . ผ่านกระบวนการต่าง ๆ เช่นการสะสมไอทางกายภาพหรือการสะสมของไอสารเคมี . การเคลือบนี้มีลักษณะการทำงานของความแข็งสูง ค่าใช้จ่าย .

กระบวนการ

①การทำให้บริสุทธิ์ทางฟิสิกส์ดำเนินการครั้งแรกเพื่อให้แน่ใจว่ามีเนื้อหาที่ไม่บริสุทธิ์ต่ำซึ่งเอื้อต่อการสะสมของฟิล์มประสิทธิภาพสูง .}

②ผงโบรอนที่มีความบริสุทธิ์สูงนั้นอยู่ภายใต้การสั่นสะเทือนแบบกดเย็นหรือการกดไอโซสเตอร์ร้อนและร่างกายสีเขียวถูกกดอย่างสม่ำเสมอและความหนาแน่นสามารถเข้าถึงได้มากกว่า 99%.}

③diamond Tool Cutting และการบดและการขัดจะใช้เพื่อปรับปรุงความแม่นยำของมิติและลดความขรุขระของพื้นผิว .

④การบำบัดที่มีอยู่ในบรรยากาศสุญญากาศเพื่อกำจัดความเครียดภายในในระหว่างกระบวนการขึ้นรูปและทำให้โครงสร้างผลึกมีเสถียรภาพ .}

⑤การควบคุมคุณภาพขั้นสุดท้ายเป็นไปตามมาตรฐาน ISO9001 และตรงตามข้อกำหนดที่เข้มงวดของลูกค้า .

รูปภาพ

วิดีโอ

ทำไมต้องเลือกเรา

กรณี

Boron Round Sputter Target, 99.5% Boron Sputtering เป้าหมาย, Boron Sputtering เป้าหมายไปยังสิงคโปร์

ในช่วงต้นเดือนกุมภาพันธ์พวกเขากล่าวว่าพวกเขาได้รับผลิตภัณฑ์ Boron Round Sputter เป้าหมายของเราและชื่นชมคุณภาพการประมวลผลและความเร็วในการส่งมอบ . เรามีการอภิปรายอย่างละเอียดเกี่ยวกับรายละเอียดการสั่งซื้อของผลิตภัณฑ์ก่อนการจัดส่ง . ทั้งสองฝ่ายได้รับการยอมรับอย่างราบรื่น ปรับปรุงเทคโนโลยีการผลิตและทัศนคติการบริการอย่างต่อเนื่อง . คุณสามารถสั่งซื้อผลิตภัณฑ์ของเราด้วยความมั่นใจ .

คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์

ป้ายกำกับยอดนิยม: เป้าหมายโบรอนบีซัพพลายเออร์ผู้ผลิตโรงงานปรับแต่ง, ขายส่ง, ราคา, ราคา, ใบเสนอราคา, ขาย