เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียมซิลิคอน

คำอธิบายเป้าหมายไททาเนียมซิลิคอนสปัตเตอร์

การเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอริงเป็นวิธีการเคลือบไอทางกายภาพรูปแบบใหม่ ซึ่งใช้ระบบปืนอิเล็กตรอนเพื่อปล่อยและโฟกัสอิเล็กตรอนบนวัสดุที่จะเคลือบ เพื่อให้อะตอมที่สปัตเตอริงเป็นไปตามหลักการของการแปลงโมเมนตัม เพื่อให้วัสดุมีกลไกที่สูงขึ้น คุณสมบัติ. วัสดุที่จะชุบเรียกว่าเป้าหมายการสปัตเตอร์ ซึ่งส่วนใหญ่ประกอบด้วยโลหะ โลหะผสม และสารประกอบเซรามิก เป้าหมายไททาเนียมซิลิคอนสปัตเตอร์สามารถแบ่งออกเป็นเป้าหมายระนาบ เป้าหมายส่วนโค้ง เป้าหมายทรงกระบอก และเป้าหมายท่อ มักผลิตโดยกระบวนการโลหะผงและมีคุณสมบัติทางกายภาพและทางเคมีที่ดีเยี่ยม เป้าหมายสปัตเตอร์ไททาเนียมซิลิคอนเป็นส่วนผสมที่ลงตัวของชั้นวัสดุแข็งไนไตรด์ ซิลิกอนรับประกันความทนทานต่อการเกิดออกซิเดชันสูง และไททาเนียมมีความแข็งและทนทานต่อการสึกหรอเป็นพิเศษ ไททาเนียม ซิลิคอน สปัตเตอร์ เป้าหมายใช้กันอย่างแพร่หลายในการเคลือบฟิล์มบาง, อุตสาหกรรมแก้ว, การเคลือบสูญญากาศ, อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์, อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์, เทคโนโลยีแมกนีตรอนสปัตเตอร์ และอุตสาหกรรมการเคลือบเพื่อการตกแต่ง

ข้อมูลจำเพาะของเป้าหมายไทเทเนียมซิลิคอนสปัตเตอร์:

รูปภาพเป้าหมายของ Titanium Silicon Sputter:

ป้ายกำกับยอดนิยม: ไททาเนียมซิลิกอนสปัตเตอร์เป้าหมาย ซัพพลายเออร์ ผู้ผลิต โรงงาน กำหนดเอง ขายส่ง ราคา ใบเสนอราคา ขาย